[实用新型]一种涂胶显影设备涂敷单元有效
| 申请号： | 201621374677.2 | 申请日： | 2016-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN206292524U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 俞韶兵;马剑 | 申请（专利权）人： | 上海精典电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 顾正超 |
| 地址： | 201206 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种涂胶显影设备涂敷单元，包括下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖和内盖，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔。本实用新型提出的涂胶显影设备涂敷单元，适用于多种尺寸基片的处理，节约购机成本，从而降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涂胶 显影 设备 单元 | ||
【主权项】：
一种涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，包括：下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖和内盖，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔。
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