[实用新型]一种涂胶显影设备涂敷单元

权利要求书

1.一种涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，包括：

下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；

上盖和内盖，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；

吸盘，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；

铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔。

2.根据权利要求1所述的涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述下盖下方设置有底盘，所述底盘外接有排风和废液管。

3.根据权利要求1所述的涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述第一尺寸基片为8吋基片，所述第二尺寸基片为4吋基片。

4.根据权利要求1所述的涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述上盖和内盖可替换为结构适配于第一尺寸基片的组件。

5.根据权利要求1所述的涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述上盖和内盖的材料采用聚四氟乙烯制成。

6.根据权利要求1所述的涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁。

7.根据权利要求1所述的涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述内盖上的开口宽度为2mm。

8.根据权利要求1所述的涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述铁盘的材料采用不锈钢制成。