[实用新型]一种液相狭缝干涉合成设备有效
申请号: | 201621293740.X | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN206286558U | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 曹笃盟;柴明强;齐勇;张亚红;王媛媛;孟涛;包飞燕;王龙;王维斌;陈文莉;潘梨军 | 申请(专利权)人: | 金川集团股份有限公司 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24 |
代理公司: | 甘肃省知识产权事务中心62100 | 代理人: | 孙惠娜,王芸 |
地址: | 737103*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种液相狭缝干涉合成设备,包括上下两个平行双通道狭缝扁平限制区和单通道狭缝合成区,上下两个平行双通道狭缝扁平限制区和单通道狭缝合成区凸凹镶嵌连通后固定置于AB区衔接固定台上,单通道狭缝合成区与上下两个平行双通道狭缝扁平限制区连接部位的垂直面为超声器连接面,超声器连接面焊接超声发射器;去能量槽通过去能量槽隔板分为进液区和出液区,其中进液区和出液区在能量槽隔板底部连通,进液区承接单通道狭缝合成区生成的银粉溶液出口,出液区通过底部出口连接过滤洗涤设备。该设备解决了搅拌釜的浓度随时间变化、搅拌不均匀、无法合成不同粒度配比的银粉、微观极大部分只依赖表面活性剂的合成方式,开创液相高稳定性连续无返混的高端浆料用银粉合成控制设备及方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 狭缝 干涉 合成 设备 | ||
【主权项】:
一种液相狭缝干涉合成设备,其特征在于:包括上下两个平行双通道狭缝扁平限制区(B)和单通道狭缝合成区(A),所述上下两个平行双通道狭缝扁平限制区(B)和单通道狭缝合成区(A)凸凹镶嵌连通后固定置于AB区衔接固定台(3)上;其中上下两个平行双通道狭缝扁平限制区(B)分别设有氧化还原物料进口(1)和还原氧化物料进口(2),所述氧化还原物料进口(1)和还原氧化物料进口(2)与棱形可密闭式配液釜相连;所述单通道狭缝合成区(A)为可通冷却循环水的长方形空壳,所述单通道狭缝合成区(A)靠近上下两个平行双通道狭缝扁平限制区(B)的部分一侧设有冷却水进口(4),另一侧设置冷却水出口(6),所述单通道狭缝合成区(A)外套有绝缘卡套(11),所述绝缘卡套(11)上下面设有两个平行通道能够分别将第一电极板(10)和第二电极板(13)镶入并固定,所述第一电极板(10)和第二电极板(13)均设有与电流控制器链接的电流控制器接线柱;所述单通道狭缝合成区(A)与上下两个平行双通道狭缝扁平限制区(B)连接部位的垂直面为超声器连接面(12),所述超声器连接面(12)焊接超声发射器;去能量槽(9)通过去能量槽隔板(8)分为进液区和出液区,其中进液区和出液区在能量槽隔板(8)底部连通,进液区承接单通道狭缝合成区(A)生成的银粉溶液出口,出液区通过底部出口连接过滤洗涤设备。
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