[实用新型]一种液相狭缝干涉合成设备

权利要求书

1.一种液相狭缝干涉合成设备，其特征在于：包括上下两个平行双通道狭缝扁平限制区（B）和单通道狭缝合成区（A），所述上下两个平行双通道狭缝扁平限制区（B）和单通道狭缝合成区（A）凸凹镶嵌连通后固定置于AB区衔接固定台（3）上；其中上下两个平行双通道狭缝扁平限制区（B）分别设有氧化还原物料进口（1）和还原氧化物料进口（2），所述氧化还原物料进口（1）和还原氧化物料进口（2）与棱形可密闭式配液釜相连；所述单通道狭缝合成区（A）为可通冷却循环水的长方形空壳，所述单通道狭缝合成区（A）靠近上下两个平行双通道狭缝扁平限制区（B）的部分一侧设有冷却水进口（4），另一侧设置冷却水出口（6），所述单通道狭缝合成区（A）外套有绝缘卡套（11），所述绝缘卡套（11）上下面设有两个平行通道能够分别将第一电极板（10）和第二电极板（13）镶入并固定，所述第一电极板（10）和第二电极板（13）均设有与电流控制器链接的电流控制器接线柱；所述单通道狭缝合成区（A）与上下两个平行双通道狭缝扁平限制区（B）连接部位的垂直面为超声器连接面（12），所述超声器连接面（12）焊接超声发射器；去能量槽（9）通过去能量槽隔板（8）分为进液区和出液区，其中进液区和出液区在能量槽隔板（8）底部连通，进液区承接单通道狭缝合成区（A）生成的银粉溶液出口，出液区通过底部出口连接过滤洗涤设备。

2.根据权利要求1所述的一种液相狭缝干涉合成设备，其特征在于：所述上下两个平行双通道狭缝扁平限制区（B）长为0.2m-5m，其中每个通道狭缝宽为0.2m-1.5m，高为0.001m-0.5m。

3.根据权利要求1或2所述的一种液相狭缝干涉合成设备，其特征在于：所述单通道狭缝合成区（A）长为0.2m-5m，宽为0.2m-1.5m，高为0.004m-1.002m。

4.根据权利要求3所述的一种液相狭缝干涉合成设备，其特征在于：所述绝缘卡套（11）为橡胶材质。