[实用新型]一种碳化硅管沉积装置有效
| 申请号： | 201621259882.4 | 申请日： | 2016-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN206308418U | 公开（公告）日： | 2017-07-07 |
| 发明（设计）人： | 邹继兆;邹广金;曾燮榕;黎晓华;姚跃超;余良 | 申请（专利权）人： | 东莞劲胜精密组件股份有限公司;东莞华程金属科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/458 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人： | 方艳平 |
| 地址： | 523843 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种碳化硅管沉积装置，包括石英管层、碳化硅层和第一保温层，其中所述石英管层、所述碳化硅层和所述第一保温层均为管状结构，所述第一保温层套设在所述碳化硅层的表面，所述碳化硅层套设在所述石英管层的表面，所述石英管层内部形成沉积区。本实用新型能够实现不使用高真空的情况下对需要镀炭膜的目标物快速镀出结构均匀、厚度可控的炭膜，而且具有效率高、工艺条件易控、炭膜与目标物结合紧密等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种碳化硅管沉积装置，其特征在于，包括石英管层、碳化硅层和第一保温层，其中所述石英管层、所述碳化硅层和所述第一保温层均为管状结构，所述第一保温层套设在所述碳化硅层的表面，所述碳化硅层套设在所述石英管层的表面，所述石英管层内部形成沉积区。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
