[实用新型]一种适合薄片化的N型PERT双面电池结构有效
申请号: | 201621159708.2 | 申请日: | 2016-11-01 |
公开(公告)号: | CN206148449U | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 屈小勇;倪玉凤;王举亮;张婷 | 申请(专利权)人: | 国家电投集团西安太阳能电力有限公司;西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/068 | 分类号: | H01L31/068;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 上海硕力知识产权代理事务所31251 | 代理人: | 郭桂峰 |
地址: | 710100 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种适合薄片化的N型PERT双面电池结构,包括硅片基体;硅片基体的正面形成有n+轻掺杂层及局部n++重掺杂区,在n+轻掺杂层上形成有通过一个工艺步骤得到的第一钝化减反层,在n++重掺杂区引出负电极。基体的背面形成有p+掺杂层及通过一个工艺步骤得到的第二钝化减反层,在p+掺杂层上引出正电极。通过将n+掺杂层转移到电池正面,可以降低金属栅线遮光面积,减少电极接触复合;且形成的n++局部重掺杂区极大地提高电池开路电压和短路电流,同时可以使n+掺杂层的方阻提升的更高,这样有利于提表面钝化效果;第一钝化减反层和第二钝化减反层均通过一个工艺步骤即可制备得到,因而在工艺制作流程上极大进行了优化,提高生产效率,减低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 适合 薄片 pert 双面 电池 结构 | ||
【主权项】:
一种适合薄片化的N型PERT双面电池结构,其特征在于,包括:硅片基体;n+轻掺杂层,形成在所述硅片基体的正面;n++重掺杂区,选择性形成在所述n+轻掺杂层中;第一钝化减反层,形成在所述n+轻掺杂层上;负电极,引出于所述n++重掺杂区;p+掺杂层,形成在所述硅片基体的背面;第二钝化减反层,形成在所述p+掺杂层上;正电极,引出于所述p+掺杂层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的