[实用新型]一种适合薄片化的N型PERT双面电池结构有效

专利信息
申请号: 201621159708.2 申请日: 2016-11-01
公开(公告)号: CN206148449U 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 屈小勇;倪玉凤;王举亮;张婷 申请(专利权)人: 国家电投集团西安太阳能电力有限公司;西安电子科技大学
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所31251 代理人: 郭桂峰
地址: 710100 陕西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种适合薄片化的N型PERT双面电池结构,包括硅片基体;硅片基体的正面形成有n+轻掺杂层及局部n++重掺杂区,在n+轻掺杂层上形成有通过一个工艺步骤得到的第一钝化减反层,在n++重掺杂区引出负电极。基体的背面形成有p+掺杂层及通过一个工艺步骤得到的第二钝化减反层,在p+掺杂层上引出正电极。通过将n+掺杂层转移到电池正面,可以降低金属栅线遮光面积,减少电极接触复合;且形成的n++局部重掺杂区极大地提高电池开路电压和短路电流,同时可以使n+掺杂层的方阻提升的更高,这样有利于提表面钝化效果;第一钝化减反层和第二钝化减反层均通过一个工艺步骤即可制备得到,因而在工艺制作流程上极大进行了优化,提高生产效率,减低了生产成本。
搜索关键词: 一种 适合 薄片 pert 双面 电池 结构
【主权项】:
一种适合薄片化的N型PERT双面电池结构,其特征在于,包括:硅片基体;n+轻掺杂层,形成在所述硅片基体的正面;n++重掺杂区,选择性形成在所述n+轻掺杂层中;第一钝化减反层,形成在所述n+轻掺杂层上;负电极,引出于所述n++重掺杂区;p+掺杂层,形成在所述硅片基体的背面;第二钝化减反层,形成在所述p+掺杂层上;正电极,引出于所述p+掺杂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家电投集团西安太阳能电力有限公司;西安电子科技大学,未经国家电投集团西安太阳能电力有限公司;西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621159708.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top