[发明专利]一种处理基板表面碳化光阻的方法及装置有效
| 申请号： | 201611217732.1 | 申请日： | 2016-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN106647182B | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 彭少凯 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L27/02 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种处理基板表面碳化光阻的方法。所述方法包括：使空气在高电压下被电离，产生离子；用电极吸引或排斥所述离子；所述离子在吸引或排斥力的作用下轰击所述基板表面，清除碳化光阻。本发明还进一步公开了一种处理基板表面碳化光阻的装置。本发明以电离空气得到的离子轰击所述基板表面，达到清除碳化的光阻的目的，可以完全清除碳化的光阻，同时节约成本，提高产能。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻 碳化 处理基板表面 离子 基板表面 电离空气 离子轰击 高电压 排斥力 电离 产能 轰击 吸引 排斥 节约 | ||
【主权项】：
1.一种处理基板表面碳化光阻的方法，其特征在于，包括：使空气在高电压下被电离，产生离子，所述高电压包括5KV～20KV；用电极吸引所述离子，所述电极电压低于所述高电压，包括2KV～5KV；所述离子在吸引或排斥力的作用下轰击所述基板表面，清除碳化光阻；对所述离子进行加热，加快所述离子的运动速度；用光阻剥离器清洗完成碳化光阻清除的所述基板；其中，所述加热的温度为40～80℃；所述基板位于传送带上。
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