[发明专利]一种去除AZ光刻胶的去胶液在审
| 申请号： | 201611206000.2 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN106773562A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 杜冰;顾群艳;梁豹;鲍杰;赵建龙;张兵;朱坤;向文胜 | 申请（专利权）人： | 昆山艾森半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体加工技术领域，涉及一种去除AZ光刻胶的去胶液，其配方包括10‑50wt％有机酯，10‑50wt％有机醇，补足余量的极性有机溶剂；其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种，有机醇为C2～3醇类，极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N‑二甲基甲酰胺、N,N‑二甲基乙酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮中的一种。本发明去胶液去胶速度快，使用温度相对较低，不伤硅、氧化硅、金属、钝化等各种底材，水溶性，容易清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 az 光刻 去胶液 | ||
【主权项】：
一种去除AZ光刻胶的去胶液，其特征在于配方包括：10‑50wt％有机酯，10‑50wt％有机醇，补足余量的极性有机溶剂；其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种，有机醇为C2～3醇类，极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N‑二甲基甲酰胺、N,N‑二甲基乙酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮中的一种。
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