[发明专利]一种去除AZ光刻胶的去胶液在审

专利信息
申请号: 201611206000.2 申请日: 2016-12-23
公开(公告)号: CN106773562A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 杜冰;顾群艳;梁豹;鲍杰;赵建龙;张兵;朱坤;向文胜 申请(专利权)人: 昆山艾森半导体材料有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 去除 az 光刻 去胶液
【权利要求书】:

1.一种去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于配方包括:10-50wt%有机酯,10-50wt%有机醇,补足余量的极性有机溶剂;其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种,有机醇为C2~3醇类,极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮中的一种。

2.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于:所述一元酸酯为乙酸乙酯、乳酸乙酯或甲酸乙酯中的一种。

3.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于:所述二元酸酯为二乙酸乙二酯、乙二酸二甲酯、乙二酸二乙酯中的一种。

4.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于:所述内酯为乙二酸乙二酯或丁内酯。

5.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于:还包括0-10wt%阻蚀剂。

6.根据权利要求5所述的去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于:所述阻蚀剂为苯并三唑、5-甲基苯并三唑、苯并咪唑中的一种。

7.根据权利要求1所述的去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于:还包括0-10wt%有机醇胺。

8.根据权利要求7所述的去除AZ光刻胶的去胶液,其特征在于:所述有机醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺中的一种。

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