[发明专利]电致发光器件及其制作方法有效
申请号: | 201611163598.1 | 申请日: | 2016-12-15 |
公开(公告)号: | CN107369778B | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 李哲 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 林青中;万志香 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种电致发光器件及其制作方法。该电致发光器件,包括衬底、图案化的阳极层、像素界定层、发光功能层、阴极层及反射层;阳极层设在衬底上;像素界定层设在衬底及阳极层上,像素界定层对应阳极层的图案区域设有贯穿至阳极层的像素坑,且对应阳极层的空白区域设有阻断坑,阻断坑的深度不小于像素坑的深度,阻断坑的侧表面及上表面设有反射层;发光功能层设在像素坑内且不高于像素坑的深度;阴极层设在发光功能层上。该电致发光器件通过在相邻的发光层功能层之间设置阻断坑,且阻断坑的侧表面及上表面设有反射层,从而可以有效防止发光功能层之间光横向传播发生串扰的现象,有利于提高器件的对比度及发光或显示性能。 | ||
搜索关键词: | 电致发光 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种电致发光器件,其特征在于,包括衬底、图案化的阳极层、像素界定层、发光功能层、阴极层及反射层;所述阳极层设在所述衬底上;所述像素界定层设在所述衬底及所述阳极层上,所述像素界定层对应所述阳极层的图案区域设有贯穿至所述阳极层的像素坑,且对应所述阳极层的空白区域设有阻断坑,所述阻断坑的深度不小于所述像素坑的深度,所述阻断坑的侧表面与所述衬底之间所成的夹角小于90°且大于20°,所述阻断坑的侧表面和上表面设有所述反射层;所述发光功能层设在所述像素坑内且不高于所述像素坑的深度;所述阴极层设在所述发光功能层上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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