[发明专利]电致发光器件及其制作方法

说明书

本发明涉及一种电致发光器件及其制作方法。该电致发光器件，包括衬底、图案化的阳极层、像素界定层、发光功能层、阴极层及反射层；阳极层设在衬底上；像素界定层设在衬底及阳极层上，像素界定层对应阳极层的图案区域设有贯穿至阳极层的像素坑，且对应阳极层的空白区域设有阻断坑，阻断坑的深度不小于像素坑的深度，阻断坑的侧表面及上表面设有反射层；发光功能层设在像素坑内且不高于像素坑的深度；阴极层设在发光功能层上。该电致发光器件通过在相邻的发光层功能层之间设置阻断坑，且阻断坑的侧表面及上表面设有反射层，从而可以有效防止发光功能层之间光横向传播发生串扰的现象，有利于提高器件的对比度及发光或显示性能。

技术领域

本发明涉及发光及显示器件领域，尤其是涉及一种电致发光器件及其制作方法。

背景技术

印刷型电致发光器件在制备过程中，须使用一层用于界定像素的材料，该材料层通常被称为像素界定层(Bank)。像素界定层上有众多的像素坑作为墨水的“容器”，每个像素坑对应于一个像素，如图1所示，衬底11上设有图案化的阳极层12，像素界定层13设在衬底11及阳极层12之上且之间形成多个像素坑，像素坑填充有发光层14，阴极层15覆盖像素界定层13及发光层14。这类器件普遍采用的工艺流程是采用喷墨打印工艺将墨水填入每个像素坑，墨水在像素界定层13所围绕的像素坑内铺展；随后，在一定温度(例如低温)下进行真空干燥，通过严格控制溶剂的挥发速率、溶剂蒸汽压等参数以尽量保证像素内不同区域、不同像素之间获得均匀的干燥；最后，通过烘烤使薄膜彻底干燥。

对于每一个像素，发光层14发出的光除了向垂直于衬底11的方向传播，还会横向地向平行于衬底11平面的各个方向传播。此外，透明ITO阳极层12的波导效应也会使一部分光横向传播。这些横向传播的光有可能进入相邻的像素中，造成不同像素之间发光的串扰、对比度下降等问题。像素界定层通常采用高分子材料制备，例如最常见的聚酰亚胺(PI)类材料。由于聚酰亚胺类像素界定材料的透明性，无法阻止一个像素中发出的光或者ITO阳极层12中以波导模式横向传播的光进入到相邻的像素。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够有效防止像素之间发光串扰的电致发光器件及其制作方法。

一种电致发光器件，包括衬底、图案化的阳极层、像素界定层、发光功能层、阴极层及反射层；所述阳极层设在所述衬底上；所述像素界定层设在所述衬底及所述阳极层上，所述像素界定层对应所述阳极层的图案区域设有贯穿至所述阳极层的像素坑，且对应所述阳极层的空白区域设有阻断坑，所述阻断坑的深度不小于所述像素坑的深度，所述阻断坑的侧表面和上表面设有所述反射层；所述发光功能层设在所述像素坑内且不高于所述像素坑的深度；所述阴极层设在所述发光功能层上。

在其中一个实施例中，所述阻断坑的侧表面与所述衬底之间所成的夹角小于90°且大于20°。

在其中一个实施例中，所述阻断坑的侧表面与所述衬底之间所成的夹角在20°～60°之间。

在其中一个实施例中，所述阻断坑的侧表面与所述衬底之间所成的夹角为45°。

在其中一个实施例中，所述阻断坑的深度等于所述像素坑的深度与所述阳极层的厚度之和。

在其中一个实施例中，所述反射层覆盖所述像素界定层的所有表面。

在其中一个实施例中，所述反射层的材料与所述阴极层的材料相同，且所述反射层与所述阴极层为一体成型的层。

在其中一个实施例中，所述发光功能层包括红色发光层、绿色发光层及蓝色发光层中的至少一种颜色的发光层。

在其中一个实施例中，所述发光功能层还包括位于所述阳极层与所述发光层之间的空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层中的至少一层；和/或

所述发光功能层还包括位于所述发光层与所述阴极层之间的电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层中的至少一层。