[发明专利]一种制作透射电镜样品的方法有效
| 申请号： | 201611161151.0 | 申请日： | 2016-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN106596609B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 郭伟;仝金雨;刘君芳;李桂花 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制作透射电镜样品的方法，其中，提供一待观测硅片，待观测硅片中包括一失效点，包括以下步骤：对待观测硅片中的失效点进行标记以形成标记区域；切割待观测硅片以获取包含标记区域的六面体；提供一单晶硅制成的载体硅片，切割载体硅片的上表面，以获取一凹槽；通过液体胶将六面体与标记区域相邻的侧面粘贴于凹槽内，并使六面体平行于凹槽的边缘；通过粘贴有六面体的载体硅片及六面体进行切割，以获得透射电镜样品。其技术方案的有益效果在于，实现提升制作透射电镜样品精度，提高透射电镜样品制作效率，解决了有技术中制作透射电镜样品易出现失效点打磨过度造成透射电镜样品制作失败的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 透射 样品 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制作透射电镜样品的方法，其特征在于，提供一待观测硅片，所述待观测硅片中包括一失效点，包括以下步骤：步骤S1、对所述待观测硅片中的所述失效点进行标记以形成标记区域；步骤S2、切割所述待观测硅片以获取包含所述标记区域的六面体；步骤S3、提供一单晶硅制成的载体硅片，切割所述载体硅片的上表面，以获取一凹槽；步骤S4、通过液体胶将所述六面体与所述标记区域相邻的侧面粘贴于所述凹槽内，并使所述六面体平行于所述凹槽的边缘；步骤S5、通过将粘贴有所述六面体的载体硅片及所述六面体进行切割，以获得透射电镜样品。
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