[发明专利]一种氧化铝半导体清洗装置在审
| 申请号： | 201611065498.5 | 申请日： | 2016-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN106733821A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 刘江华;刘冠华;张成荣 | 申请（专利权）人： | 青海新高科材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B5/02;B08B3/08;B08B13/00;F26B3/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 810000 青海省*** | 国省代码： | 青海;63 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种氧化铝半导体清洗装置，包括壳体、烘干室、排水管、电动机、清洗板和清洗液喷头，所述壳体右侧上方固定安装有操控装置，所述除尘室内部固定安装有除尘风机，所述烘干室固定安装于壳体上，所述排水管与壳体相连通，所述电动机通过传动皮带与输送带相连接，所述清洗板两端通过固定杆固定于传动皮带上，所述清洗槽内部设置有固定块，所述清洗液喷头和净水喷头上均安装有调节阀。该氧化铝半导体清洗装置设置有清洗板，清洗板上均匀的分布有清洗槽，清洗过程中，清洗掉的污浊物会从清洗槽底部流出，从而避免了清洗掉的污浊物重新附着到晶片表面造成二次污染，有效的提高了清洗效果，工作效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化铝 半导体 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种氧化铝半导体清洗装置，包括壳体(1)、烘干室(6)、排水管(8)、电动机(11)、清洗板(12)和清洗液喷头(13)，其特征在于：所述壳体(1)右侧上方固定安装有操控装置(2)，且壳体(1)左侧上方设置有除尘室(3)，所述除尘室(3)内部固定安装有除尘风机(4)，且除尘风机(4)下方设置有集尘筒(5)，所述烘干室(6)固定安装于壳体(1)上，且烘干室(6)内部设置有红外线烘干器(7)，所述排水管(8)与壳体(1)相连通，所述电动机(11)通过传动皮带(10)与输送带(9)相连接，且输送带(9)上均匀的分布固定杆(901)，所述清洗板(12)两端通过固定杆(901)固定于传动皮带(10)上，且清洗板(12)上均匀的分布有清洗槽(1201)，所述清洗槽(1201)内部设置有固定块(1202)，且固定块(1202)之间设置有半导体晶圆(1203)，所述清洗液喷头(13)和净水喷头(15)上均安装有调节阀(14)，且清洗液喷头(13)和净水喷头(15)下方设置有输送带(9)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青海新高科材料研究院有限公司，未经青海新高科材料研究院有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611065498.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于熔盐传热蓄热的太阳能梯级加热高温集热系统
- 下一篇：含冲洗水枪的装置
