[发明专利]一种氧化铝半导体清洗装置在审
| 申请号： | 201611065498.5 | 申请日： | 2016-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN106733821A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 刘江华;刘冠华;张成荣 | 申请（专利权）人： | 青海新高科材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B5/02;B08B3/08;B08B13/00;F26B3/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 810000 青海省*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化铝 半导体 清洗 装置 | ||
1.一种氧化铝半导体清洗装置，包括壳体(1)、烘干室(6)、排水管(8)、电动机(11)、清洗板(12)和清洗液喷头(13)，其特征在于：所述壳体(1)右侧上方固定安装有操控装置(2)，且壳体(1)左侧上方设置有除尘室(3)，所述除尘室(3)内部固定安装有除尘风机(4)，且除尘风机(4)下方设置有集尘筒(5)，所述烘干室(6)固定安装于壳体(1)上，且烘干室(6)内部设置有红外线烘干器(7)，所述排水管(8)与壳体(1)相连通，所述电动机(11)通过传动皮带(10)与输送带(9)相连接，且输送带(9)上均匀的分布固定杆(901)，所述清洗板(12)两端通过固定杆(901)固定于传动皮带(10)上，且清洗板(12)上均匀的分布有清洗槽(1201)，所述清洗槽(1201)内部设置有固定块(1202)，且固定块(1202)之间设置有半导体晶圆(1203)，所述清洗液喷头(13)和净水喷头(15)上均安装有调节阀(14)，且清洗液喷头(13)和净水喷头(15)下方设置有输送带(9)。
2.根据权利要求1所述的一种氧化铝半导体清洗装置，其特征在于：所述输送带(9)个数为两个，且关于清洗板(12)中轴线对称。
3.根据权利要求1所述的一种氧化铝半导体清洗装置，其特征在于：所述清洗槽(1201)横切面为圆形，且清洗槽(1201)的底部为开口结构。
4.根据权利要求1所述的一种氧化铝半导体清洗装置，其特征在于：所述固定块(1202)关于清洗槽(1201)中轴线对称。
5.根据权利要求1所述的一种氧化铝半导体清洗装置，其特征在于：所述半导体晶圆(1203)为氧化铝材质。
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