[发明专利]具有划线区域结构的三维半导体装置有效

专利信息
申请号: 201611035683.X 申请日: 2016-11-18
公开(公告)号: CN106803508B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 郑在皓;金善煐;尹壮根;赵厚成;许星会 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L27/11;H01L27/11551;H01L27/11578;H01L27/11597;H01L27/11514;H01L23/488
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;田野
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了三维(3D)半导体装置。3D半导体装置可以包括:基底,包括芯片区域和划线区域;单元阵列结构,包括三维地布置在基底的芯片区域上的存储器单元;堆叠结构,设置在基底的划线区域上,包括竖直地并交替地堆叠的第一层和第二层;多个竖直结构,沿与基底的顶表面垂直的竖直方向延伸并穿透堆叠结构。
搜索关键词: 具有 划线 区域 结构 三维 半导体 装置
【主权项】:
一种三维半导体装置,所述三维半导体装置包括:基底,包括芯片区域和划线区域;单元阵列结构,包括三维地布置在基底的芯片区域上的存储器单元;堆叠结构,设置在基底的划线区域上,堆叠结构包括竖直地并交替地堆叠的第一层和第二层;以及多个竖直结构,沿与基底的顶表面垂直的竖直方向延伸,所述多个竖直结构穿透堆叠结构,其中,堆叠结构的侧壁垂直于基底的顶表面。
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