[发明专利]半导体结构及其制造方法在审
申请号: | 201611018338.5 | 申请日: | 2016-11-14 |
公开(公告)号: | CN107689353A | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 林柏均 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48;H01L23/488;H01L21/60 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 冯志云,王芝艳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本公开提供一种半导体结构及其制造方法。半导体结构包括一基板,包括一第一表面及一第二表面,该第二表面与该第一表面相对;一接垫,设置在该第一表面上方;一第一保护件,设置在该第一表面上方且部分覆盖该接垫;以及一重布线层(redistribution layer,RDL),设置在该第一保护件上方,且包括一导线及一第二保护件,该导线延伸在该第一保护件上方,该第二保护件部分覆盖该导线;其中该导线包括一插塞部以及一焊座部,该插塞部与该接垫耦合且在该第一保护件内朝该接垫延伸,该焊座部延伸在该第一保护件上方,该焊座部包括多个第一凸出部,向远离第一保护件的方向凸出。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体结构,包含:一基板,包括一第一表面及一第二表面,该第二表面与该第一表面相对;一接垫,设置在该第一表面上方;一第一保护件,设置在该第一表面上方且部分覆盖该接垫;以及一重布线层,设置在该第一保护件上方,且包括一导线及一第二保护件,该导线延伸在该第一保护件上方,该第二保护件部分覆盖该导线;其中该导线包括一插塞部以及一焊座部,该插塞部与该接垫耦合且在该第一保护件内朝该接垫延伸,该焊座部延伸在该第一保护件上方,该焊座部包括多个第一凸出部,向远离该第一保护件的方向凸出。
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