[发明专利]提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室有效
| 申请号： | 201610962640.X | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN106298425B | 公开（公告）日： | 2017-09-29 |
| 发明（设计）人： | 高飞;王友年 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所11569 | 代理人： | 王加贵 |
| 地址： | 116000 辽宁省大连市高*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，包括金属真空腔室、若干个依次同轴设置、直径不同的石英介质桶，最上端的所述石英介质桶上端密封，最下端的所述石英介质桶和所述金属真空腔室连通，相邻两所述石英介质桶之间相互连通，每个石英介质桶外均缠绕有射频线圈，每个石英介质桶及射频线圈外均设置有屏蔽室，每相邻两石英介质桶之间相互屏蔽隔离，所述每个石英介质桶上均设置有进气口，所述金属真空腔室底部设置出气口。本发明可以提高腔室内中心区域的等离子体密度，从而提高等离子体的径向均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 等离子体 径向 均匀 等离子 体腔 | ||
【主权项】：
一种提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：包括金属真空腔室(11)、若干个依次同轴设置、直径不同的石英介质桶，最上端的所述石英介质桶上端密封，最下端的所述石英介质桶和所述金属真空腔室(11)连通，相邻两所述石英介质桶之间相互连通，每个石英介质桶外均缠绕有射频线圈，每个石英介质桶及射频线圈外均设置有屏蔽室，每相邻两石英介质桶之间相互屏蔽隔离，所述每个石英介质桶上均设置有进气口，所述金属真空腔室(11)底部设置出气口(111)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学，未经大连理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610962640.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：干刻蚀电极及刻蚀机
- 下一篇：用于清洁等离子体处理室和衬底的方法
