[发明专利]提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室有效
| 申请号： | 201610962640.X | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN106298425B | 公开（公告）日： | 2017-09-29 |
| 发明（设计）人： | 高飞;王友年 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所11569 | 代理人： | 王加贵 |
| 地址： | 116000 辽宁省大连市高*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提高 等离子体 径向 均匀 等离子 体腔 | ||
1.一种提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：包括金属真空腔室(11)、若干个依次同轴设置、直径不同的石英介质桶，最上端的所述石英介质桶上端密封，最下端的所述石英介质桶和所述金属真空腔室(11)连通，相邻两所述石英介质桶之间相互连通，每个石英介质桶外均缠绕有射频线圈，每个石英介质桶及射频线圈外均设置有屏蔽室，每相邻两石英介质桶之间相互屏蔽隔离，所述每个石英介质桶上均设置有进气口，所述金属真空腔室(11)底部设置出气口(111)。
2.根据权利要求1所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述石英介质桶为两个，下方的石英介质桶(12)顶部固定有第一金属盖板(14)，上方的石英介质桶(13)固定于所述第一金属盖板(14)上，所述第一金属盖板(14)和上方的石英介质桶(13)、下方的石英介质桶(12)之间分别通过密封法兰相互密封，下方的石英介质桶(12)上的进气口开在所述第一金属盖板(14)上。
3.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：上方的石英介质桶(13)顶部通过第二金属盖板(17)密封，上方的石英介质桶(13)上的进气口开在所述第二金属盖板(17)的中心，所述第二金属盖板(17)和上方的石英介质桶(13)之间通过密封法兰相互密封。
4.根据权利要求3所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述下方的石英介质桶(12)底部固定有第三金属盖板(15)，所述下方的石英介质桶(12)和所述第三金属盖板(15)之间通过密封法兰相互密封。
5.根据权利要求4所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述金属真空腔室(11)顶部和所述第三金属盖板(15)之间相互密封。
6.根据权利要求5所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述第三金属盖板(15)上设置有连通所述金属真空腔室(11)内腔的进气口。
7.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述金属真空腔室(11)侧壁上开有若干个观察窗(113)，每个观察窗(113)上分别设置有一连接法兰。
8.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述下方的石英介质桶(12)和上方的石英介质桶(13)之间通过金属屏蔽隔层(25)相互屏蔽隔离。
9.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述下方的石英介质桶(12)内径为30-60cm、高度为10-30cm、壁厚1-2cm，所述上方的石英介质桶(13)内径为3-10cm、高度为10-20cm、壁厚0.5-1cm。
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