[发明专利]利用非热溶液用于远紫外掩模清洗的方法和系统有效
| 申请号： | 201610912772.1 | 申请日： | 2016-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN107024831B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 沈经纬;吕启纶;林冠文 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F1/84;G03F1/72 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种修复掩模的方法。该方法包括检查掩模以识别掩模上的缺陷；对掩模使用非热化学溶液来对掩模实施清洗工艺；以及修复掩模以从掩模去除缺陷。通过冷却模块冷却非热化学溶液至室温以下的工作温度。本发明实施例涉及利用非热溶液用于远紫外掩模清洗的方法和系统。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 溶液 用于 紫外 清洗 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种修复掩模的方法，所述方法包括：检查掩模以识别所述掩模上的缺陷；对所述掩模使用非热化学溶液来对所述掩模实施清洗工艺，其中，通过冷却模块将所述非热化学溶液冷却至室温以下的工作温度；以及修复所述掩模以从所述掩模去除所述缺陷。
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