[发明专利]一种掩膜版及其制作方法在审
申请号: | 201610808108.2 | 申请日: | 2016-09-07 |
公开(公告)号: | CN107797376A | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 高志豪 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/50 | 分类号: | G03F1/50 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆,胡彬 |
地址: | 201506 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜版及其制作方法。所述制作方法包括提供一掩膜基板,所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面;采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽;采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔,所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。本发明实施例提供的技术方案,相对于现有技术中分别在玻璃面和蒸镀面采用黄光工艺的掩膜版制作方法,减少了一次黄光工艺,进而提高了掩膜版的制作效率,且由于采用激光形成的凹槽与对应开孔连通后能够平滑过渡,避免了连接处阴影效应的产生,提高了掩膜版的精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜版的制作方法,其特征在于,包括:提供一掩膜基板,所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面;采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽;以及采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔,所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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