[发明专利]一种掩膜版及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201610808108.2 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN107797376A 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 高志豪 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: G03F1/50 分类号: G03F1/50
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 孟金喆,胡彬
地址: 201506 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种掩膜版及其制作方法。所述制作方法包括提供一掩膜基板,所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面;采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽;采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔,所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。本发明实施例提供的技术方案,相对于现有技术中分别在玻璃面和蒸镀面采用黄光工艺的掩膜版制作方法,减少了一次黄光工艺,进而提高了掩膜版的制作效率,且由于采用激光形成的凹槽与对应开孔连通后能够平滑过渡,避免了连接处阴影效应的产生,提高了掩膜版的精度。
搜索关键词: 一种 掩膜版 及其 制作方法
【主权项】:
一种掩膜版的制作方法,其特征在于,包括:提供一掩膜基板,所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面;采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽;以及采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔,所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610808108.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top