[发明专利]一种掩膜版及其制作方法

说明书

技术领域

本发明实施例涉及掩膜版制备技术，尤其涉及一种掩膜版及其制作方法。

背景技术

有机发光显示装置性能优良，能够自发光无需背光，易于实现柔性显示，且响应时间短，因此备受用户青睐。

有机发光器件的有效制备是实现有机发光显示装置应用的基础，现有技术中实现有机发光器件的制备方法有多种，其中使用较为广泛的一种方法是像素并置法，采用这种方法制作出的有机发光器件显示色彩纯正，且发光效率高。具体的，像素并置法利用掩膜版作为镀膜工艺中的掩膜工具来形成像素材料层，因此，掩膜版的精度直接影响着形成有机发光器件的性能。

目前掩膜版的制作方法中需要采用两次黄光工艺，由于黄光工艺步骤相对较多，所以制作效率不高，且掩膜版通孔内壁存在阴影效应，导致掩膜版的精度降低。

发明内容

本发明提供一种掩膜版及其制作方法，以提高掩膜版的制作效率和精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版的制作方法，所述制作方法包括：

提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；

采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；

采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。

第二方面，本发明实施例还提供了一种掩膜版，所述掩膜版采用本发明任一实施例所述的制作方法形成。

本发明实施例提供的技术方案，采用激光在掩模基板的玻璃面侧形成多个相对独立的凹槽，并采用黄光工艺在掩模基板的蒸镀面侧对应多个凹槽形成多个开孔，且使多个开孔分别与对应的凹槽连通，相对于现有技术中分别在玻璃面和蒸镀面采用黄光工艺的掩膜版制作方法，减少了一次黄光工艺，进而提高了掩膜版的制作效率，且由于采用激光形成的凹槽与对应开孔连通后能够平滑过渡，避免了连接处阴影效应的产生，提高了掩膜版的精度。

附图说明

为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。

图1a-图1c是现有技术中掩膜版的制作方法的示意图；

图2是本发明实施例提供的一种掩膜版的制作方法的流程图；

图3a-图11是本发明实施例提供的掩膜版的制作方法的示意图；

图12a是形成减重槽后掩膜版的俯视示意图；

图12b是沿图12a中虚线GH的剖面示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1a-图1c是现有技术中掩膜版的制作方法的示意图。如图1a所示，提供一掩膜基板100，所述掩膜基板100包括相对的玻璃面110和蒸镀面120。采用黄光工艺在掩模基板100的玻璃面110侧形成多个凹槽111，如图1b所示。然后再一次采用黄光工艺在掩模基板100的蒸镀面120侧对应上述多个凹槽111形成多个开孔121，如图1c所示，其中，多个开孔121分别与对应的凹槽111连通。

现有技术中的掩膜版制作方法分别在掩膜基板100的玻璃面110侧和蒸镀面120侧进行一次黄光工艺，而黄光工艺包括光刻胶涂覆、显影以及烘烤等多道工艺步骤，因此掩膜版的制作效率较低。此外，如图1c所示，无论在玻璃面110侧还是在蒸镀面120侧，随着刻蚀深度的增加掩模基板100的刻蚀量呈减少趋势，导致玻璃面110侧的凹槽111与蒸镀面120侧的开孔121连接位置出现凸起结构130，利用该掩膜版进行镀膜工艺时，上述凸起结构130会对膜层材料形成阻挡，使膜层材料不能有效形成于玻璃面110侧凹槽111对应的位置，造成镀膜精度的下降。

针对上述问题，本发明提供了一种掩膜版的制作方法，该方法在玻璃面110侧形成凹槽111时，使用激光加工替代现有技术中的一次黄光工艺，激光加工快捷方便的特性提升了掩膜版的制作效率。此外，由于激光形成的凹槽111形状易于控制，避免了凹槽111与开孔121连接处置凸起结构130的出现，进而解决了掩膜版的阴影效应问题，提高了掩膜版的精度。

基于以上描述，本发明实施例提供了如下的解决方案。