[发明专利]一种掩膜版及其制作方法

权利要求书

1.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：

提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；

采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；以及

采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述掩模基板采用金属材料形成。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜基板采用不锈钢或镍铁合金形成。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜基板的厚度取值范围为10μm～50μm。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽的步骤之前，还包括：

采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成对位标记。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧标定对位标记的步骤，包括：

确定与所述玻璃面的几何中心距离相等的四个点为标记中心点；

根据所述标记中心点以及预设尺寸、形状及深度，采用激光形成对应的对位标记。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述确定与所述玻璃面的几何中心距离相等的四个位置为标记中心点的步骤，包括：

获取所述玻璃面的两条对角线；

选择所述两条对角线上分别与所述玻璃面上用以获取两条对角线的四个顶点距离相等的四个点为标记中心点。

8.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽的步骤，包括：

根据所述对位标记确定所述玻璃面上多个所述凹槽的边沿线；

基于所述边沿线以及预设凹槽深度，采用激光形成对应的多个凹槽。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔的步骤，包括：

在所述掩膜基板的蒸镀面上涂布光刻胶；

根据所述对位标记调整所述掩膜基板位置；

采用预设条件对所述光刻胶进行曝光和显影；

在所述掩膜基板的蒸镀面侧刻蚀形成所述多个开孔；以及

去除剩余所述光刻胶。

10.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述对位标记为凹槽状或孔状。

11.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述对位标记平行于所述玻璃面以及所述蒸镀面的截面为圆形、椭圆形或多边形。

12.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多个相互独立的凹槽呈阵列排布。

13.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多个相互独立的凹槽呈多行和多列排布，且相邻两行凹槽在列方向或行方向上间错设置。

14.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多个相互独立的凹槽的深度小于所述掩膜基板厚度的一半。

15.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述激光的激光束直径为1μm。

16.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述掩膜基板玻璃面侧多个凹槽之外的区域形成减重槽，所述减重槽与所述多个凹槽相互独立。

17.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述开孔最大口径为所述凹槽口径的2～8倍。

18.一种掩膜版，其特征在于，采用权利要求1-17任一项所述的制作方法形成。