[发明专利]一种3D衍射镀膜工艺

摘要

本发明公开了一种3D衍射镀膜工艺，其操作简单，由单光源的牛顿环原理，由光的传波中光波‑‑子波的相互振动的叠加，由光的衍射之折射、反射、透射及增透射、增反射的交互作用，由产品内镀的图案中的圆孔、矩孔、线条产生的狭缝衍射，以至传导到玻璃外层形成衍射屏，最终产生多层的3D视觉效果，制得的成品3D效果好，非常精美，高档。

主权项

一种3D衍射镀膜工艺，其特征在于其步骤如下：(1)产品坯体的准备：玻璃a：玻璃的模具成型及吹制成型，白玻成品折射率在1.56左右；b：用频率为40KHZ的超声波清洗玻璃之油污及脏污货品；c：用摄氏65度的温度烘烤玻璃水汽，时间30分钟；(2)产品内腔加工：内电镀a：产品内腔喷一层底漆，烘烤180度，时长90分钟。b：内镀，利用高压电弧，使真空让铝和镍离子靶材蒸发，而沉积在玻璃表面，形成膜的过程，从而形成一层银色薄膜。c：喷一层面漆，保护薄膜层，烘烤160‑170度，时长90分钟。d：同时需保持车间湿度在70％以下。(3)产品图文加工：CO2镭射激光图案，文字a：按AI图档制版，制成所需文档b:CO2镭射激光图案，文字c:利用CO2激光机，按制版好的图文图案烧掉镀膜，从而得到想要的图案；(4)产品外部加工：光学镀膜之真空镀膜a：真空镀膜主要是指需要在较高真空度下进行的镀膜，主要有两类分成蒸发和溅射两种，而此处则用蒸发镀膜，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中；b：蒸发镀膜：加热靶材材料使表面组份以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点‑‑岛状结构‑‑迷走结构‑‑层状生长)形成薄膜；所述蒸发镀膜的方法为:七个坩埚中依序装入ZnS/SiO/ZnS/SiO/ZnS/SiO/ZnS,每个坩埚中约装20克蒸发材料，钼舟上放入锆钛混合物高温气化形成保护层。