[发明专利]一种3D衍射镀膜工艺

权利要求书

1.一种3D衍射镀膜工艺，其特征在于其步骤如下：

(1)产品坯体的准备：玻璃

a：玻璃的模具成型及吹制成型，白玻成品折射率在1.56左右；

b：用频率为40KHZ的超声波清洗玻璃之油污及脏污货品；

c：用摄氏65度的温度烘烤玻璃水汽，时间30分钟；

(2)产品内腔加工：内电镀

a：产品内腔喷一层底漆，烘烤180度，时长90分钟。

b：内镀，利用高压电弧，使真空让铝和镍离子靶材蒸发，而沉积在玻璃表面，形成膜的过程，从而形成一层银色薄膜。

c：喷一层面漆，保护薄膜层，烘烤160-170度，时长90分钟。

d：同时需保持车间湿度在70％以下。

(3)产品图文加工：CO2镭射激光图案，文字

a：按AI图档制版，制成所需文档

b:CO2镭射激光图案，文字

c:利用CO2激光机，按制版好的图文图案烧掉镀膜，从而得到想要的图案；

(4)产品外部加工：光学镀膜之真空镀膜

a：真空镀膜主要是指需要在较高真空度下进行的镀膜，主要有两类分成蒸发和溅射两种，而此处则用蒸发镀膜，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中；

b：蒸发镀膜：加热靶材材料使表面组份以原子团或离子形式被 蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点--岛状结构--迷走结构--层状生长)形成薄膜；

所述蒸发镀膜的方法为:七个坩埚中依序装入ZnS/SiO/ZnS/SiO/ZnS/SiO/ZnS,每个坩埚中约装20克蒸发材料，钼舟上放入锆钛混合物高温气化形成保护层。

2.权利要求1所述的3D衍射镀膜工艺，其特征在于：

所述真空蒸发镀膜的设备结构包括：

a:真空帮浦

b:蒸镀源

c:主腔体

d:监控系统

e:操作系统

f:辅助设备。

3.权利要求1所述的3D衍射镀膜工艺，其特征在于：

所述光学真空镀膜之靶材材料的选自：

从化学组成上薄膜材料可分为：

氧化物类：AL2O3,SIO,SIO2,TIO2,TI2O3,ZrO2等；

氟化物类：MgF2,BaF2,YF3,Na3AlF6等；

其它化合物类：ZnS,ZnSe,PbTe等。

4.权利要求1所述的3D衍射镀膜工艺，其特征在于：

步骤(2)底漆的配方为：

a:油漆与稀释剂的比例为10:1-2，b:偶联聚合物及复合物树脂 c:稀释剂为天那水。

5.权利要求1-4任一项所述的3D衍射镀膜工艺生产得到的3D衍射镀膜玻璃。