[发明专利]一种正装LED发光二极管及其制作工艺在审

专利信息
申请号: 201610253384.7 申请日: 2016-04-22
公开(公告)号: CN105742421A 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 蔡立鹤;张永;陈凯轩;李俊贤;刘英策;陈亮;魏振东;吴奇隆;周弘毅;邬新根;黄新茂 申请(专利权)人: 厦门乾照光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/04;H01L33/42
代理公司: 扬州市锦江专利事务所 32106 代理人: 江平
地址: 361000 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种正装LED发光二极管及其制作工艺,涉及LED发光二极管技术领域。在外延层上图形化地刻蚀去除各元胞的P‑GaN层和量子阱层部分区域,直至暴露出N‑GaN层;在外延片表面利用溅射法蒸镀透明导电材料,通过光刻工艺,采用化学蚀刻方法,仅保留各元胞的P‑GaN层上的透明导电材料;在相邻的两个元胞中的一个元胞的透明导电层上制作P电极,在另一个元胞的透明导电层、P‑GaN层和量子阱层外包裹式制作N电极,N电极的下端连接在N‑GaN层上。本发明保留了N电极下方的部分P‑GaN及量子阱层,本发明工艺简单,将原本需要全部刻蚀掉的P‑GaN和MQW保留一部分,减少了ICP刻蚀完后的黑点现象的发生及良率的提升。
搜索关键词: 一种 led 发光二极管 及其 制作 工艺
【主权项】:
 一种正装LED发光二极管,在衬底的同一侧包括依次设置的N‑GaN层、量子阱层、P‑GaN层和透明导电层,在透明导电层上设置P电极,在N‑GaN层上连接N电极,其特征在于在N电极与N‑GaN层之间包裹式设置透明导电层、P‑GaN层和量子阱层。
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