[发明专利]一种掩膜板及其制作方法

摘要

本发明涉及半导体技术领域，公开了一种掩膜板及其制作方法。所述掩膜板包括图形区域和位于图形区域外围、与图形区域的每一侧边对应的对位图形，所述对位图形位于对应侧边所在直线的外侧。且在与所述图形区域每一侧边垂直的方向上，对应的所述对位图形的尺寸为厘米级，从而在制作图形区域的图形时，能够快速实现掩膜板和遮挡板的对位，减少每次曝光的对位时间，降低Take Time，提高产能。并达到零对位偏差的效果，避免因对位不好造成的返工风险，降低成本，提高产品品质。

主权项

一种掩膜板，包括基底，所述基底包括至少一个掩膜区域，每一所述掩膜区域包括图形区域，其特征在于，每一所述掩膜区域还包括位于所述图形区域外围、与图形区域的每一侧边对应的对位图形，所述对位图形位于对应侧边所在直线的外侧；在与所述图形区域每一侧边垂直的方向上，对应的所述对位图形的尺寸为厘米级。