[发明专利]一种石英晶片加工工艺有效

专利信息
申请号: 201610133039.X 申请日: 2016-03-09
公开(公告)号: CN105751054B 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 王立虎;唐健玻;侯书超 申请(专利权)人: 应达利电子股份有限公司
主分类号: B24B31/02 分类号: B24B31/02
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 王利彬
地址: 518103 广东省深圳市宝安区福永*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明适用于电子元件加工工艺领域,提供了一种石英晶片加工工艺,包括以下步骤:覆膜:将石英晶片的中间区域涂覆上保护材料;加工:将石英晶片、研磨砂、钢珠和水置于滚筒内,启动滚筒转动,完成加工;脱膜:去除石英晶片上的保护材料。本发明不仅缩短了石英晶片加工周期、降低了生产成本,而且不影响石英晶片的性能。此外,本发明的加工工艺操作简单,便于工业化生产。
搜索关键词: 一种 石英 晶片 加工 工艺
【主权项】:
1.一种石英晶片加工工艺,其特征在于,包括以下步骤:覆膜:将石英晶片的中间区域覆盖上保护材料;加工:将所述石英晶片、研磨砂、钢珠和水置于滚筒内,启动滚筒转动,加工;以及脱膜:去除石英晶片上的保护材料;所述保护材料包括聚氨酯或环氧树脂。
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