[发明专利]一种膜层的图案化方法、基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610125151.9 | 申请日： | 2016-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN105527801B | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 郑奉官;王伟杰;曾庆慧 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26;G03F7/40;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种膜层的图案化方法、基板及其制作方法、显示装置，用以在不需要购买新的掩膜板的情况下制作高解析度的基板，降低生产成本。膜层的图案化方法包括在衬底基板上形成一层膜层，对膜层进行曝光；对曝光后的膜层进行显影，形成初步图案化的膜层；在显影过程中控制显影时长，使得初步图案化的膜层在与衬底基板接触的一侧形成向内凹的缺口；对完成上述步骤的衬底基板在预设温度下进行后烘烤，缺口上方位置处的膜层发生塌陷，使得初步图案化的膜层形成包括位于塌陷位置处的第一厚度的膜层和非塌陷位置处的第二厚度的膜层；去除第一厚度的膜层，得到图案化的膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图案 方法 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种膜层的图案化方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成一层膜层，对所述膜层进行曝光；对曝光后的所述膜层进行显影，形成初步图案化的膜层；在显影过程中控制显影时长，使得所述初步图案化的膜层在与所述衬底基板接触的一侧形成向内凹的缺口；对完成上述步骤的衬底基板在预设温度下进行后烘烤，所述缺口上方位置处的膜层发生塌陷，使得所述初步图案化的膜层形成包括位于塌陷位置处的第一厚度的膜层和非塌陷位置处的第二厚度的膜层；去除第一厚度的膜层，得到图案化的膜层。
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