[发明专利]一种膜层的图案化方法、基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610125151.9 | 申请日： | 2016-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN105527801B | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 郑奉官;王伟杰;曾庆慧 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26;G03F7/40;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 图案 方法 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种膜层的图案化方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底基板上形成一层膜层，对所述膜层进行曝光；
对曝光后的所述膜层进行显影，形成初步图案化的膜层；在显影过程中控制显影时长，使得所述初步图案化的膜层在与所述衬底基板接触的一侧形成向内凹的缺口；
对完成上述步骤的衬底基板在预设温度下进行后烘烤，所述缺口上方位置处的膜层发生塌陷，使得所述初步图案化的膜层形成包括位于塌陷位置处的第一厚度的膜层和非塌陷位置处的第二厚度的膜层；
去除第一厚度的膜层，得到图案化的膜层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺口关于所述初步图案化的膜层的中心轴线对称分布。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一厚度的膜层关于所述初步图案化的膜层的中心轴线对称分布。
4.一种膜层的图案化方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底基板上形成一层膜层，在所述膜层上涂覆光刻胶，对所述光刻胶进行曝光；
对曝光后的所述光刻胶进行显影，形成初步图案化的光刻胶；在显影过程中控制显影时长，使得所述初步图案化的光刻胶在与所述膜层接触的一侧形成向内凹的缺口；
对完成上述步骤的衬底基板在预设温度下进行后烘烤，所述缺口上方位置处的光刻胶发生塌陷，使得所述初步图案化的光刻胶形成包括位于塌陷位置处的第一厚度的光刻胶和非塌陷位置处的第二厚度的光刻胶；
去除第一厚度的光刻胶，得到图案化的光刻胶；
对衬底基板上未被所述图案化的光刻胶覆盖的所述膜层进行刻蚀，并去除剩余的光刻胶，得到图案化的膜层。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述缺口关于所述初步图案化的光刻胶的中心轴线对称分布。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一厚度的光刻胶关于所述初步图案化的光刻胶的中心轴线对称分布。
7.一种基板的制作方法，其特征在于，所述基板上的至少一层膜层采用权利要求1-3任一权项所述的膜层的图案化方法制作；或，
所述基板上的至少一层膜层采用权利要求4-6任一权项所述的膜层的图案化方法制作。
8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
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