[发明专利]可控制透光图案变化的光学复合膜结构的制造方法在审
| 申请号： | 201610096147.4 | 申请日： | 2016-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN107045220A | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 张裕洋;刘修铭;谷福田;陈家庆;丁定国 | 申请（专利权）人： | 位元奈米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1334 | 分类号： | G02F1/1334;G02F1/13;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人： | 梁丽超,陈鹏 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种可控制透光图案变化的光学复合膜结构的制造方法，包括以下步骤首先，提供一光学复合膜，其包括一高分子液晶分散层、一形成于高分子液晶分散层上之透明导电层及一形成于透明导电层上之透明基板；接着，对光学复合膜进行图案化加工，移除透明导电层的一部分以形成一导电线路图案及多条由导电线路图案一侧弯折延伸而成的引线，并形成一贯穿透明基板、透明导电层及高分子液晶分散层的接线缺口；然后，对经图案化的光学复合膜进行至少一次表面修复程序；最后，在接线缺口处形成一电性接点。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 透光 图案 变化 光学 复合 膜结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种可控制透光图案变化的光学复合膜结构的制造方法，其特征在于，所述可控制透光图案变化的光学复合膜结构的制造方法包括以下步骤：提供设定尺寸的一光学复合膜，其包括一高分子液晶分散层、形成于该高分子液晶分散(PDLC)层的一表面的第一透明导电层及形成于该第一透明导电层上的第一透明基板；对该光学复合膜进行图案化加工，移除该第一透明导电层的一部分以形成第一导电线路图案及由该第一导电线路图案的一侧弯折延伸而成的多条第一引线，再于该第一透明基板、该第一透明导电层及该高分子液晶分散层形成第一接线缺口；对图案化后的该光学复合膜进行至少一次表面修复程序；以及在该第一接线缺口处形成电性接点。
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