[发明专利]一种掩模板罩及掩模板有效
| 申请号: | 201610091362.5 | 申请日: | 2016-02-18 |
| 公开(公告)号: | CN105549321B | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
| 发明(设计)人: | 孙中元;刘文祺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;C23C14/04 |
| 代理公司: | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄志华 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明涉及显示制造领域,公开一种掩模板罩及掩模板。掩模板罩,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有与至少一个所述调节单元对应设置的开口部,其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小。该掩模板罩可在同一掩模板上形成多种大小不同的图形区域,减少了测试过程中的掩模板使用数量,简化了显示面板的生产工序。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 模板 | ||
【主权项】:
1.一种掩模板罩,其特征在于,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有开口部,所述开口部的至少一部分与所述调节单元对应设置;其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:/n沿第一方向,所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述第一方向与所述开口部的延展平面平行;/n所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小;/n所述支架上设有当所述遮挡板处于初始状态时用于收纳所述遮挡板的收纳组件;/n所述收纳组件包括遮挡板转轴,所述遮挡板转轴的轴心线与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行,所述遮挡板的第二端与所述遮挡板转轴连接、且所述遮挡板处于初始状态时缠绕于所述遮挡板转轴。/n
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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