[发明专利]一种掩模板罩及掩模板有效
| 申请号: | 201610091362.5 | 申请日: | 2016-02-18 |
| 公开(公告)号: | CN105549321B | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
| 发明(设计)人: | 孙中元;刘文祺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;C23C14/04 |
| 代理公司: | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄志华 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 模板 | ||
1.一种掩模板罩,其特征在于,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有开口部,所述开口部的至少一部分与所述调节单元对应设置;其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:
沿第一方向,所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述第一方向与所述开口部的延展平面平行;
所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小;
所述支架上设有当所述遮挡板处于初始状态时用于收纳所述遮挡板的收纳组件;
所述收纳组件包括遮挡板转轴,所述遮挡板转轴的轴心线与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行,所述遮挡板的第二端与所述遮挡板转轴连接、且所述遮挡板处于初始状态时缠绕于所述遮挡板转轴。
2.根据权利要求1所述的掩模板罩,其特征在于,所述收纳组件还包括与所述遮挡板转轴连接的复位机构,所述复位机构用于驱动所述遮挡板转轴转动,以使所述遮挡板缠绕于所述遮挡板转轴。
3.根据权利要求2所述的掩模板罩,其特征在于,所述复位机构为与所述遮挡板转轴连接的发条弹簧或电机。
4.根据权利要求1所述的掩模板罩,其特征在于,所述驱动组件包括驱动转轴、电机和至少一条连接线,其中,
沿所述第一方向,所述驱动转轴位于所述开口部背离所述遮挡板转轴的一侧、且与所述遮挡板转轴平行;
所述电机安装于所述支架且与所述驱动转轴连接以驱动所述驱动转轴绕其轴心线转动;
所述连接线的第一端固定于所述驱动转轴,所述连接线的第二端与所述遮挡板的第一端连接,所述连接线可在所述驱动转轴的转动下缠绕于所述驱动转轴,以使所述遮挡板的第一端沿所述第一方向动作。
5.根据权利要求4所述的掩模板罩,其特征在于,所述连接线为两条,且沿第二方向,两条所述连接线分别位于所述开口部的延伸方向上的两侧,所述第二方向与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行。
6.根据权利要求1所述的掩模板罩,其特征在于,每个所述调节单元中,所述支架的开口部为长方形开口,且所述开口部沿所述第一方向延伸,其中,所述开口部中沿垂直于所述第一方向排列的两个侧壁上分别设有一个滑槽,且所述开口部两个侧壁上设置的滑槽开口相对、且沿所述第一方向延伸;所述遮挡板沿垂直于所述第一方向排列的两个侧边的至少一部分位于所述滑槽内、且可相对于所述支架沿所述滑槽延伸方向滑动。
7.根据权利要求1-6任一项所述的掩模板罩,其特征在于,所述掩模板罩包括多个并排设置的调节单元,且多个所述调节单元的排列方向与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行。
8.一种掩模板,其特征在于,包括如权利要求1-7任一项所述的掩模板罩,每个所述掩模板罩上的开口部与所述掩模板上的图形区域的至少一部分对应设置。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





