[发明专利]一种掩模板罩及掩模板有效
| 申请号: | 201610091362.5 | 申请日: | 2016-02-18 |
| 公开(公告)号: | CN105549321B | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
| 发明(设计)人: | 孙中元;刘文祺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;C23C14/04 |
| 代理公司: | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄志华 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 模板 | ||
本发明涉及显示制造领域,公开一种掩模板罩及掩模板。掩模板罩,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有与至少一个所述调节单元对应设置的开口部,其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小。该掩模板罩可在同一掩模板上形成多种大小不同的图形区域,减少了测试过程中的掩模板使用数量,简化了显示面板的生产工序。
技术领域
本发明涉及显示制造领域,特别涉及一种掩模板罩及掩模板。
背景技术
在显示面板的制备过程中常采用光刻技术或蒸镀技术,在光刻工艺和蒸镀工艺中均需采用掩摸板。掩模板上形成有用于透光或透过蒸镀气体的图形区域,以在基板上形成所需的光刻图形或蒸镀图形。
在显示面板的生产过程中,如需在同一基板上的不同区域内形成厚度不同的光刻图形或蒸镀图形,需使用多张具有不同大小的图形区域的掩膜板,增加了显示面板的生产工序。
发明内容
本发明提供了一种掩模板罩及掩模板,该掩模板罩可在同一掩模板上形成多种大小不同的图形区域,减少了测试过程中的掩模板使用数量,简化了显示面板的生产工序。
为实现上述目的,本发明提供如下的技术方案:
一种掩模板罩,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有开口部,所述开口部的至少一部分与所述调节单元对应设置,其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:
沿第一方向,所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述第一方向与所述开口部的延展平面平行;
所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小。
该掩模板罩中包括支架和调节单元,通过驱动组件可调节遮挡板覆盖所述开口部面积的大小,在显示面板的生产过程中,可通过调整遮挡板覆盖开口部的区域的面积大小,使掩模板罩上形成大小不同的开口部,从而改变与该掩模板罩配合的掩模板上的图形区域的开口大小,以使一张掩模板可提供多个大小不同的图形区域,进而实现在基板上的不同区域内形成厚度不同的材料。综上可知,该掩模板罩可减少显示面板的生产过程中使用的掩模板的数量,简化了显示面板的生产工序。
优选地,所述支架上设有当所述遮挡板处于初始状态时用于收纳所述遮挡板的收纳组件。
优选地,所述收纳组件包括遮挡板转轴,所述遮挡板转轴的轴心线与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行,所述遮挡板的第二端与所述遮挡板转轴连接、且所述遮挡板处于初始状态时缠绕于所述遮挡板转轴。
优选地,所述收纳还包括与所述遮挡板转轴连接的复位机构,所述复位机构用于驱动所述遮挡板转轴转动,以使所述遮挡板缠绕于所述遮挡板转轴。
优选地,所述复位机构为与所述遮挡板转轴连接的发条弹簧或电机。
优选地,所述收纳组件包括设置于所述开口部一侧的容纳腔,所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述容纳腔内。
优选地,所述驱动组件包括驱动转轴、电机和至少一条连接线,其中,
沿所述第一方向,所述驱动转轴位于所述开口部背离所述遮挡板转轴的一侧、且与所述遮挡板转轴平行;
所述电机安装于所述支架且与所述驱动转轴连接以驱动所述驱动转轴绕其轴心线转动;
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





