[发明专利]像素结构及其制作方法、阵列基板及显示装置在审
| 申请号： | 201610064421.X | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN105487311A | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 杨海刚;朴正淏;李哲;胡竞勇 | 申请（专利权）人： | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 400714 重庆市北碚区*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，公开了一种像素结构及其制作方法、阵列基板及显示装置。该像素结构包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的第一透明电极层和第二透明电极层，所述第二透明电极层包括多个条状电极，所述第一透明电极层包括至少一个狭缝，且每一个所述狭缝至少部分位于所述条状电极在所述衬底基板的投影内。该像素结构通过在第一透明电极层上形成的狭缝，有效减小了第一透明电极层与第二透明电极层的重叠区域，从而降低了其间形成的存储电容，提高像素的充电效率以及显示装置的显示质量。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 结构 及其 制作方法 阵列 显示装置 | ||
【主权项】：
一种像素结构，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的第一透明电极层和第二透明电极层，所述第二透明电极层包括多个条状电极，其特征在于，所述第一透明电极层包括至少一个狭缝，且每一个所述狭缝至少部分位于所述条状电极在所述衬底基板的投影内。
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