[发明专利]像素结构及其制作方法、阵列基板及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种像素结构及其制作方法、 阵列基板及显示装置。

背景技术

液晶显示装置是目前使用最广泛的一种平板显示装置，可为各种 电子设备如移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机以及计算机等提 供具有高分辨率彩色屏幕。其中FFS(FringeFieldSwitching，边缘场开 关技术)液晶显示装置以其观看视角广以及开口率高等特点受到广大用 户的喜爱。目前普遍采用的FFS液晶显示装置，通常包括彩膜基板、阵 列基板以及设置在彩膜基板和阵列基板之间的液晶层。其中在阵列基 板上设置有多条数据线、栅线以及由多条数据线栅线交叉限定的多个 像素结构。

如图1所示，传统FFS显示技术的像素结构包括衬底基板3＇，在衬 底基板3＇上设置有薄膜晶体管4＇、第一透明电极层1＇、第二透明电 极层2＇。其中，第一透明电极层1＇为面状结构电极，第二透明电极 层2＇包括若干个条状电极，第一透明电极层1＇与第二透明电极层2＇ 之间存在重叠区域。具体的排布结构如图2所示。由图1以及图2可以看 出传统的像素结构第一透明电极层1＇与第二透明电极层2＇的重叠区 域较大，因此第一透明电极层1＇与第二透明电极层2＇之间形成的存 储电容(Cst)较大。较大的存储电容延长了像素的充电时间，使像素单 元易出现充电不足的现象，导致显示面板亮度下降，严重影响了显示 质量。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：解决如何降低现有的像素结构中第 一透明电极层以及第二透明电极层之间的存储电容的问题。

为实现上述的发明目的，本发明提供了一种像素结构及其制作方 法、阵列基板及显示装置。

依据本发明的第一方面，提供了一种像素结构：包括衬底基板以 及设置在所述衬底基板上的第一透明电极层和第二透明电极层，所述 第二透明电极层包括多个条状电极，其特征在于，所述第一透明电极 层包括至少一个狭缝，且每一个所述狭缝至少部分位于所述条状电极 在所述衬底基板的投影内。

优选地，每一个所述狭缝全部位于所述条状电极在所述衬底基板 的投影内。

优选地，对于每一个所述狭缝，其宽度与其相对的条状电极的宽 度之比为10％～100％。

优选地，所述第一透明电极层中所述狭缝的数量与所述第二透明 电极层中所述条状电极的数量之比为1:50～1:2。

依据本发明的第二方面，提供了一种阵列基板，包括上述所述的 像素结构。

依据本发明的第三方面，提供了一种显示装置，包括上述所述的 阵列基板。

依据本发明的第四方面，提供了一种像素结构的制作方法，包括：

在衬底基板上形成第一透明电极层和第二透明电极层，其中，所 述第二透明电极层包括多个条状电极，所述第一透明电极层包括至少 一个狭缝，且每一个所述狭缝至少部分位于所述条状电极在所述衬底 基板的投影内。

优选地，每一个所述狭缝全部位于所述条状电极在所述衬底基板 的投影内。

优选地，对于每一个所述狭缝，其宽度与其相对的条状电极的宽 度之比为10％～100％。

优选地，所述第一透明电极层中所述狭缝的数量与所述第二透明 电极层中所述条状电极的数量之比为1:50～1:2。

本发明提供的该像素结构，通过在第一透明电极层上形成狭缝， 并使狭缝至少部分位于条形电极在衬底基板上的投影内，有效减小了 第一透明电极层与第二透明电极层的重叠区域，从而降低了其间形成 的存储电容，提高像素的充电效率以及显示装置的显示质量。

附图说明

通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处 对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施 方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用 相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1是现有技术的像素结构截面示意图；

图2是现有技术的像素结构俯视图；

图3是本发明提供的像素结构截面示意图；

图4是本发明提供的一种像素结构俯视图；

图5是本发明提供的另一种像素结构俯视图；

图6是本发明提供的不同狭缝设置比率对应的电压-透过率曲线示 意图；