[发明专利]像素结构及其制作方法、阵列基板及显示装置在审
| 申请号： | 201610064421.X | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN105487311A | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 杨海刚;朴正淏;李哲;胡竞勇 | 申请（专利权）人： | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 400714 重庆市北碚区*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 像素 结构 及其 制作方法 阵列 显示装置 | ||
1.一种像素结构，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的第 一透明电极层和第二透明电极层，所述第二透明电极层包括多个条状 电极，其特征在于，所述第一透明电极层包括至少一个狭缝，且每一 个所述狭缝至少部分位于所述条状电极在所述衬底基板的投影内。
2.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，每一个所述狭缝 全部位于所述条状电极在所述衬底基板的投影内。
3.如权利要求2所述的像素结构，其特征在于，对于每一个所述 狭缝，其宽度与其相对的条状电极的宽度之比为10％～100％。
4.如权利要求1-3任一所述的像素结构，其特征在于，所述第一 透明电极层中所述狭缝的数量与所述第二透明电极层中所述条状电极 的数量之比为1:50～1:2。
5.一种阵列基板，其特征在于，包括如权利要求1-4任一所述的 像素结构。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5所述的阵列基 板。
7.一种像素结构的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成第一透明电极层和第二透明电极层，其中，所 述第二透明电极层包括多个条状电极，所述第一透明电极层包括至少 一个狭缝，且每一个所述狭缝至少部分位于所述条状电极在所述衬底 基板的投影内。
8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，每一个所述狭缝 全部位于所述条状电极在所述衬底基板的投影内。
9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，对于每一个所述 狭缝，其宽度与其相对的条状电极的宽度之比为10％～100％。
10.如权利要求7-9任一所述的制作方法，其特征在于，所述第一 透明电极层中所述狭缝的数量与所述第二透明电极层中所述条状电极 的数量之比为1:50～1:2。
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