[发明专利]精密测长机的校准片构造及其制作方法在审
| 申请号： | 201610051129.4 | 申请日： | 2016-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN105549233A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 杨二 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种精密测长机的校准片构造及其制作方法。所述精密测长机的校准片构造包含一透明基板、一黑色矩阵层及一透明保护层。所述黑色矩阵层设于所述透明基板上，并暴露部分的所述透明基板；所述透明保护层完整覆盖所述透明基板及所述黑色矩阵层，以形成保护作用。相较于现有的校准片，本发明的精密测长机的校准片构造可不受外界环境影响，稳定性高，同时可长时间保存。 | ||
| 搜索关键词： | 精密 长机 校准 构造 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种精密测长机的校准片构造，其特征在于，其包含：一透明基板；一黑色矩阵层，呈一网格状，设于所述透明基板上，并暴露部分的所述透明基板；及一透明保护层，设于所述透明基板及所述黑色矩阵层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610051129.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：照明装置
- 下一篇：3D显示装置及其光栅周期调节方法
