[发明专利]一种磁感应LED芯片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610032273.3 申请日: 2016-01-18
公开(公告)号: CN105576089B 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 何苗;闫保彪;郑树文 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/52;H01L33/36
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 胡辉
地址: 510631 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种磁感应LED芯片及其制备方法,芯片包括发光结构,所述发光结构的侧面纵向环绕有透明的磁感应线圈。方法包括:在蓝宝石衬底上生长形成GaN缓冲层;在GaN缓冲层上生长形成n‑GaN发光层;在n‑GaN发光层上生长形成发光外延结构;将蓝宝石衬底和GaN缓冲层进行剥离;通过透明的磁感应线圈将n‑GaN发光层和发光外延结构的侧面进行纵向环绕。本发明通过采用透明的磁感应线圈将n‑GaN发光层和发光外延结构的侧面进行纵向环绕,能通过电磁感应取代传统的有线连接,从而利用感应电流激发LED发光,彻底抛弃了现有的焊接工艺,大大简化封装工艺流程,使封装更加方便快捷高效,有效节约生产成本。本发明可广泛用于半导体领域中。
搜索关键词: 一种 感应 led 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种磁感应LED芯片,其特征在于:包括发光结构,所述发光结构的侧面纵向环绕有透明的磁感应线圈;所述发光结构包括n‑GaN发光层和形成在n‑GaN发光层上的发光外延结构;所述发光外延结构由上到下依次为p‑GaN层、p‑Al0.15Ga0.85N层、In0.06Ga0.94N层和n‑Al0.15Ga0.85N层,所述n‑Al0.15Ga0.85N层形成在n‑GaN发光层上。
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