[发明专利]掩膜板有效
申请号: | 201610016716.X | 申请日: | 2016-01-11 |
公开(公告)号: | CN105629655B | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 马骏;杨成绍 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02F1/15;G02F1/13 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 鞠永善 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种掩膜板,属于显示技术领域。该掩膜板包括:透明基板;所述透明基板上形成有至少两层电致变色薄膜图形,每层所述电致变色薄膜图形的上下两侧形成有透明电极;所述至少两层电致变色薄膜图形能够在所述透明电极的作用下在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形。本发明提供的掩膜板能够在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形,解决了相关技术中显示基板制造成本较高的问题,降低了显示基板制造过程中所需要使用的掩膜板的数量,从而简化了TFT‑LCD的制造工艺,降低了TFT‑LCD的制造成本。本发明用于制造显示基板。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括:透明基板;所述透明基板上形成有至少两层电致变色薄膜图形,每层所述电致变色薄膜图形的上下两侧形成有透明电极;所述至少两层电致变色薄膜图形能够在所述透明电极的作用下在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形;其中,所述透明基板的两侧中的至少一侧形成有下透明电极,所述下透明电极上形成有第一电致变色薄膜图形,所述第一电致变色薄膜图形上形成有共用透明电极,所述共用透明电极上形成有第二电致变色薄膜图形,所述第二电致变色薄膜图形上形成有上透明电极,所述共用透明电极上加载的电压小于所述下透明电极上加载的电压和所述上透明电极上加载的电压。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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