[发明专利]掩膜板

说明书

本发明公开了一种掩膜板，属于显示技术领域。该掩膜板包括：透明基板；所述透明基板上形成有至少两层电致变色薄膜图形，每层所述电致变色薄膜图形的上下两侧形成有透明电极；所述至少两层电致变色薄膜图形能够在所述透明电极的作用下在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形。本发明提供的掩膜板能够在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形，解决了相关技术中显示基板制造成本较高的问题，降低了显示基板制造过程中所需要使用的掩膜板的数量，从而简化了TFT‑LCD的制造工艺，降低了TFT‑LCD的制造成本。本发明用于制造显示基板。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩膜板。

背景技术

掩膜板是在薄膜晶体管液晶显示器(英文：Thin Film Transistor LiquidCrystal Display；简称：TFT-LCD)的光刻工艺中用于进行图形制作的一种组件，掩膜板主要由透明基板和形成在该透明基板上的具有特定图形的不透光区域组成。

相关技术中，在制作掩膜板时，主要是在透明基板上沉积一层不透光膜层(例如铬层)，然后采用电子束或激光按照预设的特定图形对该不透光膜层进行刻画，再经过显影、刻蚀和脱膜等图形化工艺，即可在透明基板上形成具有特定图形的不透光区域。

但是，相关技术中每张掩膜板上的图形是固定不变的，即每张掩膜板唯一对应一种图形。由于显示基板的制造过程需要在衬底基板上依次形成多个图形，需要购买与要形成的图形相对应的多个掩膜板，因此，TFT-LCD的制造过程较繁琐，且制造成本较高。

发明内容

为了解决相关技术中薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD制造成本较高的问题，本发明提供了一种掩膜板。所述技术方案如下：

本发明实施例提供了一种掩膜板，所述掩膜板包括：透明基板；

所述透明基板上形成有至少两层电致变色薄膜图形，每层所述电致变色薄膜图形的上下两侧形成有透明电极；

所述至少两层电致变色薄膜图形能够在所述透明电极的作用下在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形。

可选的，所述透明基板的两侧分别形成有至少一层电致变色薄膜图形。

可选的，所述透明基板的一侧形成有第一下透明电极，所述第一下透明电极上形成有第一电致变色薄膜图形，所述第一电致变色薄膜图形上形成有第一上透明电极；

所述透明基板的另一侧形成有第二下透明电极，所述第二下透明电极上形成有第二电致变色薄膜图形，所述第二电致变色薄膜图形上形成有第二上透明电极。

可选的，所述透明基板的两侧中的至少一侧形成有下透明电极，所述下透明电极上形成有第一电致变色薄膜图形，所述第一电致变色薄膜图形上形成有共用透明电极，所述共用透明电极上形成有第二电致变色薄膜图形，所述第二电致变色薄膜图形上形成有上透明电极，所述共用透明电极上加载的电压小于所述下透明电极上加载的电压和所述上透明电极上加载的电压。

可选的，所述电致变色薄膜图形包括至少两个间隔设置的电致变色薄膜单元，所述至少两个间隔设置的电致变色薄膜单元的间隙形成有透明绝缘层。

可选的，所述掩膜板还包括：设置在所述透明基板外围的控制模块，

所述控制模块分别与每层所述电致变色薄膜图形上下两侧形成的透明电极电连接，用于控制每层所述电致变色薄膜图形的电压，以调节每层所述电致变色薄膜图形的透光状态；

所述透光状态包括可透光状态和不透光状态。

可选的，所述电致变色薄膜图形为普鲁士蓝薄膜。

可选的，所述透明电极为氧化铟锡ITO膜层。

可选的，所述透明绝缘层为氧化硅膜层或者氮化硅膜层。