[发明专利]一种清理片及其制备方法在审
| 申请号： | 201610003915.7 | 申请日： | 2016-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN105665206A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 吴春晖 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B05B15/02 | 分类号： | B05B15/02;C08G18/66;C08G18/42;C08G18/10;C08G18/32;C08G18/34 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种清理片及其制备方法。该清理片用于清理狭缝式喷嘴，包括基片，还包括形成在基片的至少一侧表面上的凝胶层，凝胶层采用溶胀型聚合物材料。该清理片通过设置凝胶层，使该清理片在清洗涂布机喷嘴的过程中，不仅增大了与喷嘴的接触面积，而且凝胶层表面的细微孔洞结构能够更好地吸附涂布机喷嘴上的灰尘，从而大大提高了涂布机喷嘴的清洁效果，同时，凝胶层的微弹性能够减少清洗中对喷嘴带来的划伤，随着清洁效果的提高，减少了清洗涂布机喷嘴时清理片的用量，从而节约了成本，减少了清洁节拍时间，提高了生产效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清理 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种清理片，用于清理狭缝式喷嘴，其特征在于，包括基片，还包括形成在所述基片的至少一侧表面上的凝胶层，所述凝胶层采用溶胀型聚合物材料。
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