[发明专利]一种清理片及其制备方法在审
| 申请号: | 201610003915.7 | 申请日: | 2016-01-04 |
| 公开(公告)号: | CN105665206A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
| 发明(设计)人: | 吴春晖 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | B05B15/02 | 分类号: | B05B15/02;C08G18/66;C08G18/42;C08G18/10;C08G18/32;C08G18/34 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 清理 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体地,涉及一种清理片及其制 备方法。
背景技术
随着TFT-LCD领域的技术发展,玻璃基板的大型化,并考虑 到降低涂料的使用量,涂料的涂布方式从6代线以前的旋转涂布 法变成目前普遍采用的狭缝式涂布法,满足了玻璃基板大型化的 需求,并节约了涂料的使用量,降低了成本,提高了生产效率。
随着狭缝式涂布法的普遍采用,对于狭缝式涂布机喷嘴的清 理也成为了一项必不可少的工序。由于涂料在涂布过程中会在喷 嘴里残留,随着溶剂的挥发,涂料中的溶质部分将会留存于喷嘴 中,对于后续的涂布机涂胶带来影响,因此必须对喷嘴部分定期 清洗,避免涂布机喷嘴堵塞造成的涂布不良。
现有技术中的涂布机喷嘴清洁装置,有的是通过去胶溶剂溶 解残留在喷嘴上的光刻胶,并经排液孔将其排出;有的是采用机 械方式对喷嘴进行自动清理,并通过增加一超声波装置,对机械 清理方式无法清理到的喷嘴部分进行彻底清洗;还有的是利用辅 助插入部件将清扫片体导入狭缝喷嘴内,进行狭缝喷嘴的清洁, 保证狭缝喷嘴的涂布品质,在利用上述清洁装置对喷嘴进行清理 后,还需要进一步采用薄膜片对狭缝状的喷嘴进行内部清洗。
传统的薄膜片采用聚氨酯或聚酰胺材料形成。传统的薄膜片 通常只能一次性使用,传统的薄膜片对喷嘴的清洁效果有限,通 常需要连续使用多块薄膜片才能将喷嘴彻底清洁干净,不仅降低 了喷嘴的清洁效率,而且还降低了生产效率;另一方面,在清理 过程中,传统的薄膜片还容易对喷嘴内部的结构产生划痕,影响 涂布机的涂布效果。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题,提供一种清理 片及其制备方法。该清理片通过设置凝胶层,不仅增大了与喷嘴 的接触面积,而且大大提高了涂布机喷嘴的清洁效果,同时减少 清洗中对喷嘴带来的划伤,从而不仅提高了清洁效果,而且减少 了清洗涂布机喷嘴时清理片的用量,节约了成本,提高了生产效 益。
本发明提供一种清理片,用于清理狭缝式喷嘴,包括基片, 还包括形成在所述基片的至少一侧表面上的凝胶层,所述凝胶层 采用溶胀型聚合物材料。
优选地,所述凝胶层与所述基片之间的附着力等级为国际附 着力测试标准等级0-2级。
优选地,所述基片采用聚氨酯、聚对苯二甲酸乙二醇、聚对 苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺和聚丙烯中的任意一种材质。
优选地,所述凝胶层由凝胶剂交联固化获得的聚合物经过溶 胀获得。
优选地,所述凝胶剂为单体N-乙烯基吡咯烷酮,所述凝胶 层为聚乙烯基吡咯烷酮。
优选地,所述凝胶层的聚合物分子量范围为10万-50万。
优选地,所述凝胶层的聚合物分子量范围为20万-30万。
优选地,所述凝胶层的厚度范围为20μm-70μm。
优选地,所述凝胶层的厚度范围为30μm-60μm。
优选地,所述凝胶层形成在所述基片的各个表面上。
本发明还提供一种上述清理片的制备方法,包括:
形成基片;
在所述基片的至少一侧表面上形成凝胶层。
优选地,所述基片采用聚氨酯、聚对苯二甲酸乙二醇、聚对 苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺和聚丙烯中的任意一种材料制成。
优选地,所述在所述基片的至少一侧表面上形成凝胶层包 括:
将所述基片浸泡在凝胶剂中;
对浸泡过凝胶剂的所述基片进行加热,以使所述凝胶剂交联 固化后在所述基片表面形成凝胶聚合物层;
将形成有凝胶聚合物层的所述基片在溶剂中润湿,使所述凝 胶聚合物层发生膨胀,以获得所述凝胶层。
优选地,所述凝胶剂为单体N-乙烯基吡咯烷酮,所述凝胶 层为聚乙烯基吡咯烷酮。
优选地,所述溶剂为水、异丙醇和乙醇中的任意一种。
优选地,将形成有凝胶聚合物层的所述基片在溶剂中润湿的 时长范围为4-10分钟。
优选地,所述基片在所述凝胶剂中浸泡的时长范围为4-8 分钟,对浸泡过凝胶剂的所述基片进行加热的温度范围为40℃ -60℃,加热的时长范围为10-15分钟。
优选地,当所述基片采用聚氨酯材料时,所述基片的制备方 法包括:
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