[发明专利]用于在真空处理腔室中进行基板处理期间保持基板的保持布置、用于在真空处理腔室中支撑基板的载体和用于保持基板的方法在审
| 申请号： | 201580084385.7 | 申请日： | 2015-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108350570A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 西蒙·刘 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;B65G15/42;B65G15/58 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开内容提供了一种用于在真空处理腔室(912)中进行基板处理期间保持基板(10)的保持布置(100)。所述保持布置(100)包括：柔性装置，所述柔性装置具有一个或多个区段，其中所述一个或多个区段在第一操作条件下被提供以具有第一部分、第二部分和弯曲部分，其中所述弯曲部分被提供在所述第一部分与所述第二部分之间，其中所述第一部分具有经构造以面向所述基板的表面，并且其中所述第一部分和所述第二部分相对于彼此是可移动的；和粘合剂(20)，所述粘合剂提供在所述第一部分的所述表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 真空处理腔室 粘合剂 基板处理 柔性装置 第一操作条件 内容提供 可移动 中支撑 | ||
【主权项】：
1.一种用于在真空处理腔室中进行基板处理期间保持基板的保持布置，所述保持布置包括：柔性装置，所述柔性装置具有一个或多个区段，其中所述一个或多个区段在第一操作条件下被提供以具有第一部分、第二部分和弯曲部分，其中所述弯曲部分被提供在所述第一部分与所述第二部分之间，其中所述第一部分具有表面，所述表面经构造以面向所述基板，并且其中所述第一部分和所述第二部分相对于彼此是可移动的；和粘合剂，所述粘合剂提供在所述第一部分的所述表面上。
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