[发明专利]用于基板背侧变色控制的支撑组件

摘要

于此披露用于处理基板的处理腔室。在一个实施方式中，处理腔室包括支撑轴组件。支撑轴组件具有环形基座、盘形加热板和支撑轴系统。支撑轴系统支撑基座和加热板，使得基座被支撑在加热板上方，在加热板和基座之间限定有间隙。在另一实施方式中，加热板包括多个沟槽且基座包括多个鳍片。鳍片被配置成座落于沟槽内，使得基座被支撑在加热板上方，在加热板和基座之间限定间隙。在另一个实施方式中，于此披露处理在上述实施方式中的基板的方法。

主权项

一种用于半导体处理的处理腔室，所述处理腔室包括：腔室主体，所述腔室主体具有内部容积；支撑轴组件，所述支撑轴组件设置在所述内部容积中，所述支撑轴组件包括：支撑轴系统，所述支撑轴系统包括：轴；多个臂，每个臂具有第一端和第二端，每个臂的所述第一端耦接至所述轴，每个臂的所述第二端具有销接收凹槽；和多个可移动的支撑销，每一个销被放置在所述销接收凹槽的相应端内；盘形加热板，所述盘形加热板由所述支撑轴系统支撑；和环形基座，所述环形基座由在所述支撑轴系统中的所述多个销支撑，使得在所述加热板与所述基座之间存在间隙。