[发明专利]用于校正能量依赖投影值的校正装置有效
| 申请号: | 201580072744.7 | 申请日: | 2015-12-24 | 
| 公开(公告)号: | CN107111888B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 | 
| 发明(设计)人: | E·勒斯尔;I·M·布勒维;D·鲁宾;O·扎尔钦 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 | 
| 主分类号: | G06T11/00 | 分类号: | G06T11/00 | 
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪贵 | 
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | 本发明涉及一种用于校正能量依赖投影值的校正装置。投影值提供单元(13)提供已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射,针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度生成的能量依赖校准投影值。瞬态行为确定和校正单元(12)基于所述能量依赖校准投影值来确定所述能量分辨检测器的瞬态行为,并且基于确定的所述瞬态行为来校正能量依赖实际投影值。校正后的所述能量依赖实际投影值较少受所述能量分辨检测器的瞬态行为的影响或完全不受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响,由此改进所述能量依赖实际投影值的品质。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 校正 能量 依赖 投影 装置 | ||
【主权项】:
                一种用于校正能量依赖投影值的校正装置,所述校正装置包括:投影值提供单元(13),所述投影值提供单元用于提供能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))以及用于提供能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p)),所述能量依赖校准投影值已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射,针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度而生成,并且所述能量依赖实际投影值已在实际扫描操作期间基于已穿过待成像物体并且撞击在所述能量分辨检测器(6)上的辐射,针对所述辐射的强度已在所述实际扫描操作中改变之后的不同时间而生成,瞬态行为确定和校正单元(12),所述瞬态行为确定和校正单元用于基于所述能量依赖校准投影值Mb(I1,I2,A,t,p)来确定表示所述能量分辨检测器(6)的瞬态行为的瞬态行为参数(db(I1,I2,A,t,p),Δa(I1,I2,A,t,p)),并且用于基于所述能量分辨检测器(6)的确定的所述瞬态行为参数(db(I1,I2,A,t,p),Δa(I1,I2,A,t,p))来校正所述能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p))。
            
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