[发明专利]用于校正能量依赖投影值的校正装置有效
| 申请号: | 201580072744.7 | 申请日: | 2015-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN107111888B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
| 发明(设计)人: | E·勒斯尔;I·M·布勒维;D·鲁宾;O·扎尔钦 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号: | G06T11/00 | 分类号: | G06T11/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪贵 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 校正 能量 依赖 投影 装置 | ||
本发明涉及一种用于校正能量依赖投影值的校正装置。投影值提供单元(13)提供已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射,针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度生成的能量依赖校准投影值。瞬态行为确定和校正单元(12)基于所述能量依赖校准投影值来确定所述能量分辨检测器的瞬态行为,并且基于确定的所述瞬态行为来校正能量依赖实际投影值。校正后的所述能量依赖实际投影值较少受所述能量分辨检测器的瞬态行为的影响或完全不受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响,由此改进所述能量依赖实际投影值的品质。
技术领域
本发明涉及用于校正能量依赖投影值的校正装置、方法和计算机程序。本发明进一步涉及包括该校正装置的用于对物体进行成像的光谱成像系统,以及涉及对应的光谱成像方法和计算机程序。
背景技术
已知光谱计算机断层摄影系统包括发射用于穿过待成像物体的多色辐射的辐射源和用于在该辐射已穿过物体之后基于辐射生成能量依赖投影值的能量分辨检测器。辐射源和检测器在物体周围旋转,以便在不同的投影方向上获取能量依赖投影值。基于所获取的能量依赖投影值,重建计算机断层摄影图像。
能量依赖投影值的生成可能暂时是不稳定的,即,在相同的辐射条件下,在不同的时间可生成不同的能量依赖投影值,这可能降低能量依赖投影值的品质。这继而可能导致基于能量依赖投影值重建的计算机断层摄影图像的品质降低。
US 20140233693 A1公开了一种用于通过确定多个能量窗中的光子计数并且基于预定的光子计数损失查找表和确定的光子计数来针对每一能量辨别检测器调整确定的光子计数的光子计数损失校准方法。
发明内容
本发明的目的是提供用于校正能量依赖投影值的校正装置、方法和计算机程序,以便改进其品质。本发明的另一目的是提供包括该校正装置的用于对物体进行成像的光谱成像系统,以及提供对应的光谱成像方法和计算机程序。
在本发明的第一方面中,给出一种用于校正能量依赖投影值的校正装置,其中所述校正装置包括:
投影值提供单元,所述投影值提供单元用于提供能量依赖校准投影值以及用于提供能量依赖实际投影值,所述能量依赖标准投影值已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器上的辐射,针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度而生成,并且所述能量依赖实际投影值已在实际扫描操作期间基于已穿过待成像物体并且撞击在所述能量分辨检测器上的辐射,针对所述辐射的强度已在所述实际扫描操作中改变之后的不同时间而生成,
瞬态行为确定和校正单元,所述瞬态行为确定和校正单元用于基于所述能量依赖校准投影值来确定表示所述能量分辨检测器的瞬态行为的瞬态行为参数,并且用于基于所述能量分辨检测器的确定的所述瞬态行为参数来校正所述能量依赖实际投影值。
因为表示撞击在所述能量分辨检测器上的所述辐射的强度已改变之后,尤其在所述辐射已接通之后的所述能量分辨检测器的瞬态行为的所述瞬态行为参数是基于所述能量依赖校准投影值确定的,其中该确定的瞬态行为参数用于校正所述能量依赖实际投影值,校正后的所述能量依赖实际投影值较少受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响或完全不受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响,由此改进所述能量依赖实际投影值的品质。
所述投影值提供单元可以是存储单元,所述能量依赖校准投影值和所述能量依赖实际投影值可存储在所述存储单元中,并且可从所述存储单元检索所述能量依赖校准投影值和所述能量依赖实际投影值以用于提供所述能量依赖校准投影值和所述能量依赖实际投影值。所述投影值提供单元也可以是用于从用于获取这些投影值的获取单元接收所述能量依赖校准投影值和所述能量依赖实际投影值的接收单元。然而,所述投影值提供单元也可以是获取单元自身,其中所述获取单元包括所述能量分辨检测器。
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