[发明专利]关于清洁离子源的方法和装置有效
| 申请号： | 201580054036.0 | 申请日： | 2015-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN107107127B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 马克·约翰·奎托斯 | 申请（专利权）人： | 克雷托斯分析有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;H01J49/16 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 英国大曼*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种清洁离子源的方法。该方法包括：在反光镜的第一反射面，将具有第一波长带内波长的光反射到离子源的表面上以使污染物材料从离子源的表面被解吸；在反光镜的第二反射面，将具有第二波长带内的波长并且来自离子源的表面的光反射向用于生成离子源的表面的图像的成像装置，其中具有第二波长带内波长的光在在反光镜的第二反射面上被反射之前穿过反光镜的第一反射面。 | ||
| 搜索关键词： | 关于 清洁 离子源 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种清洁离子源的方法，其特征在于，所述方法包括：在反光镜的第一反射面，将具有第一波长带内波长的光反射到所述离子源的表面上，以使污染物材料从所述离子源的所述表面被解吸；在所述反光镜的第二反射面，将具有第二波长带内的波长并且来自所述离子源的所述表面的光反射向用于生成所述离子源的所述表面的图像的成像装置，其中具有所述第二波长带内波长的所述光在在所述反光镜的所述第二反射面上被反射之前穿过所述反光镜的所述第一反射面。
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