[发明专利]关于清洁离子源的方法和装置

权利要求书

1.一种清洁离子源的方法，其特征在于，所述方法包括：

在反光镜的第一反射面，将具有第一波长带内波长的紫外光反射到所述离子源的表面上，以使污染物材料从所述离子源的所述表面被解吸，其中所述紫外光具有10nm至400nm范围内的波长并且由激光器产生；

在所述反光镜的第二反射面，将具有第二波长带内的多个波长并且来自所述离子源的所述表面的可见光反射向用于使用所述可见光生成所述离子源的所述表面的图像的成像装置，其中所述可见光具有390nm至700nm范围内的多个波长，并且由与所述激光器分开的光源产生，所述光源用所述可见光照明所述离子源的所述表面，其中所述可见光在所述反光镜的所述第二反射面上被反射之前穿过所述反光镜的所述第一反射面；以及

其中，所述反光镜的所述第一和第二反射面相对于用于电离样品材料的激光器为凹面。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述离子源包括用于通过在样品材料上发射光而电离所述样品材料的激光器，并且具有所述第一波长带内波长的所述紫外光通过用于电离所述样品材料的所述激光器被产生。

3.根据如上所述的权利要求中的任何一项所述的方法，其特征在于，所述反光镜的所述第一反射面对具有所述第一波长带内波长的所述紫外光具有99％或者更大的反射率。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述离子源包括用于生成所述样品的图像的成像装置，其中用于生成所述样品的图像的所述成像装置同样被用作用于生成所述离子源的所述表面的图像的所述成像装置。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述离子源的所述表面是所述离子源的电极的表面。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括，在所述成像装置，使用具有所述第二波长带内多个波长的所述可见光生成所述离子源的所述表面的图像。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在具有所述第二波长带内多个波长的所述可见光在所述反光镜的所述第二反射面被反射的同时，具有所述第一波长带内波长的所述紫外光在所述反光镜的所述第一反射面被反射。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括移动所述反光镜以使具有所述第一波长带内波长的所述紫外光扫过所述离子源的所述表面。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一和第二反射面具有相同曲率。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一和第二反射面具有不同曲率。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述反光镜被安装在用于支撑将通过所述离子源被电离的样品材料的样品支架上，并且其中所述反光镜被安装在所述样品支架上以至于所述第一和第二反射面与通过所述样品支架支撑的样品相比在距用于电离样品材料的激光器不同的距离上。

12.一种用于产生电离的样品材料的离子源，其特征在于，所述离子源包括反光镜，所述反光镜包括第一反射面和第二反射面，所述离子源被配置为通过包括以下步骤的方法被清洁：

在所述反光镜的所述第一反射面，将具有第一波长带内波长的紫外光反射到所述离子源的表面上，以使污染物材料从所述离子源的所述表面被解吸，其中所述紫外光具有10nm至400nm范围内的波长并且由激光器产生；

在所述反光镜的所述第二反射面，将具有第二波长带内的多个波长并且来自所述离子源的所述表面的可见光反射向用于使用所述可见光生成所述离子源的所述表面的图像的成像装置，其中所述可见光具有390nm至700nm范围内的多个波长，并且由与所述激光器分开的光源产生，所述光源用所述可见光照明所述离子源的所述表面，其中所述可见光在所述反光镜的所述第二反射面上被反射之前穿过所述反光镜的所述第一反射面；以及

其中，所述反光镜的所述第一和第二反射面相对于用于电离样品材料的激光器为凹面。