[发明专利]阻气膜、电子器件及阻气膜的制造方法在审
| 申请号： | 201580052107.3 | 申请日： | 2015-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN106715117A | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 药师寺隆 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李辉,黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在具有有机层与无机层的层叠结构的阻气膜中，在有机层的形成面上形成识别标记。由此，在具有有机层与无机层的层叠结构的阻气膜中，该阻气膜具有利用于电子器件的制作等中的识别标记，并且能够防止因该识别标记引起的无机层的破损。 | ||
| 搜索关键词： | 阻气膜 电子器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种阻气膜，其特征在于，具有：支撑体；有机无机层叠结构，其形成于所述支撑体上且具有至少一层有机层及至少一层无机层，由所述有机层及无机层交替层叠而成；及识别标记，其形成于至少一层所述有机层的形成面上。
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