[实用新型]一种硅片清洗装置有效

专利信息
申请号: 201521143834.4 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN205289078U 公开(公告)日: 2016-06-08
发明(设计)人: 房利 申请(专利权)人: 天津天物金佰微电子有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;H01L21/02
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 刘莹
地址: 300385 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型提供了一种硅片清洗装置,包括清洗槽、喷淋管、清洗篮、清洗槽侧壁一、清洗槽侧壁二、硅片垫板,其中所述清洗槽侧壁一与清洗槽侧壁二分别设有喷淋管,所述喷淋管的一端封闭,另一端与供水管相连,所述喷淋管上设有喷嘴,所述清洗槽的底部设有硅片垫板,所述清洗篮上设有齿槽,所述清洗篮的齿槽中插入硅片。本实用新型所述的一种硅片清洗装置能有效清洗掉硅片表面吸附的残留酸、碱或有机溶剂,让硅片能够得到彻底的清洗,避免了硅片表面局部清洗不干净的现象,提高了硅片的洁净度,该装置清洗工序简单,节约了用水量。
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 装置
【主权项】:
一种硅片清洗装置,其特征在于:包括清洗槽(1)、喷淋管(2)、清洗篮(5)、清洗槽侧壁一(6)、清洗槽侧壁二(7)、硅片垫板(4),其中所述清洗槽侧壁一(6)与清洗槽侧壁二(7)分别设有喷淋管(2),所述喷淋管(2)的一端封闭,另一端与供水管相连,所述喷淋管(2)上设有喷嘴(3),所述清洗槽(1)的底部设有硅片垫板(4),所述清洗槽(1)内设有清洗篮(5),所述清洗篮(5)上设有齿槽(9),所述清洗篮(5)的齿槽(9)中插入硅片(8)。
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